テトラアミノ化合物及びその製造方法

開放特許情報番号
L2003002174
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/25

基本情報

出願番号 特願平11-232233
出願日 1999/8/19
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-055371
公開日 2001/2/27
登録番号 特許第3486669号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 テトラアミノ化合物及びその製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 化学物質原料、機能材料
目的 新規化合物であるテトラアミノ化合物及びその製造方法の提供。
効果 新しい骨格の化合物の製造原料、或いはポリアミノ化合物製造用原料やポリアミド製造用モノマー、界面活性剤や重金属捕集材料の原料物質として用いることができる。
技術概要
この技術では、テトラアミノ化合物のN,N−ジ置換アミノメチル基(−CH↓2NR↓2)の置換基であるRは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、及びスルホニル基から選ばれる原子又は基である。置換基Rが水素を表すときには、N,N−ジ置換アミノメチル基はアミノメチル基である。置換基Rがアルキル基の場合は、炭素数1から10の一般式C↓nH↓(2n+1)で表される基である。置換基Rがアリール基の場合は、芳香族炭化水素基である。置換基Rがヘテロ環基を表す場合は、環を構成する異原子として窒素、硫黄、酸素などを含む環状化合物からなる基である。置換基Rがアシル基を表す場合は、カルボン酸からOHを除いた、RCOで表される基であり、Rはアルキル又は芳香族炭化水素基を表す。置換基Rがスルホニル基を表す場合は、−SO↓2−で表される基である。置換基Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルケニル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、及びスルホニル基から選ばれる原子又は基を表す。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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