蒸着膜の形成方法及び蒸着装置

開放特許情報番号
L2003002099 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/24

基本情報

出願番号 特願平10-101834
出願日 1998/3/31
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開平11-279747
公開日 1999/10/12
登録番号 特許第3295724号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 蒸着膜の形成方法及び蒸着装置
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 所望の被加工体表面に機械的特性や電気的特性などの物理的性質あるいは耐食性や耐薬品性などの化学的性質などの均一性に優れる蒸着膜を効率よく形成させる方法及びこの方法に用いる蒸着装置。
目的 所望の被加工体表面に、機械的特性や電気的特性などの物理的性質、あるいは耐食性や耐薬品性などの化学的性質などの物性が均一な蒸着膜を効率よく形成させる方法、及びこの方法に用いる蒸着装置の提供。
効果 金属、合金、有機材料、セラミックスなどからなる被加工体表面に、機械的特性や電気的特性などの物理的性質、あるいは耐食性や耐薬品性などの化学的物質などの物性が均一な異種金属や合金、有機材料、セラミックスなどからなる蒸着膜を形成することができる。
技術概要
この技術では、被加工体と蒸着用ターゲット物質との間に、複数のスリット孔を等間隔で穿設したスリット板複数枚を、蒸着用ターゲット物質と被加工体との間での粒子の直進を阻止することができる相対的な位置で、しかもターゲットとそれに最も近いスリット板とを小さい距離になるように、またこのスリット板と次のスリット板とを後者に粒子が到達する前に十分な粒子間の衝突が起る距離になるように、平行かつ相互に変位可能に配置する。これを制御しながら粒子間の衝突により小粒径の粒子の飛行方向を変えてスリット間を通過させるとともに、飛行方向がほとんど変わらない大粒径の粒子の通過を阻止してこれを被加工体表面に蒸着させないで均一性の良好な蒸着膜を形成させる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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