耐候性ホトクロミック薄膜の製造方法

開放特許情報番号
L2003002048 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/24

基本情報

出願番号 特願平11-174582
出願日 1999/6/21
出願人 経済産業省産業技術総合研究所長
公開番号 特開2001-005125
公開日 2001/1/12
登録番号 特許第3148988号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 耐候性ホトクロミック薄膜の製造方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 光機能材料
目的 有機ホトクロミック化合物がもつ本来の機能をそこなうことなく、簡単な手段で光機能性を示し、かつ光透過性の良好な耐候性ホトクロミック薄膜の提供。
効果 光機能材料として有用な耐熱性及び化学安定性の優れた耐候性ホトクロミック材料をこれまで得られなかった無機質薄膜として得ることができる。
技術概要
この技術では、人造サポナイト3gを、濃度12mg/mlの塩化テトラメチルアンモニウム水溶液100mlに懸濁させ、懸濁液を70℃で3時間かきまぜたのち、ろ過し、サポナイトの層間に支柱を導入する。ろ過後、硝酸銀試験で塩化物イオンが検出されなくなるまで純水で繰り返し洗浄する。乾燥後、得られた粉体状のサポナイト200mgを11gの純水に懸濁し、超音波照射とかきまぜをそれぞれ15分ずつ行った後、30分静置する。静置後、得られた懸濁液を純水で希釈する。得られた希釈液を、マイクロピペットで500mg分取し、ガラス基板上に滴下し膜状に展開し、常温で乾燥後、無色透明のサポナイト薄膜を得る。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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