複数のアセチレン基を有する有機チオ基を単分子層吸着させた金及びその製造方法

開放特許情報番号
L2003001993
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/24

基本情報

出願番号 特願2000-069122
出願日 2000/3/13
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-253867
公開日 2001/9/18
登録番号 特許第3475220号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 複数のアセチレン基を有する有機チオ基を単分子層吸着させた金及びその製造方法
技術分野 無機材料
機能 表面処理
適用製品 非線形光学材料、光記録材料、光導波路材料
目的 複数のアセチレン基を有する有機チオ基を表面に単分子層吸着させた金と、それを安定なチオール等価体を用いて製造する方法の提供。
効果 金表面上に複数のアセチレンを有するスルフィドの薄膜を作製することができる。また、非線形光学材料、光記録材料、光導波路材料等として利用することができる。
技術概要
 
この技術では、金の表面に有機チオ基を単分子層吸着させるには、フッ素イオン存在下、式(2)[R−(C≡C)↓x−S−CH↓2−CH↓2−Si(CH↓3)↓3]で表わされる複数のアセチレン基を有するトリメチルシリルエチルスルフィド化合物を含む溶液を金表面に接触させる方法がある。この場合の接触法としては、スルフィド化合物を含む溶液中に金を浸漬する方法等の従来公知の方法を採用する。フッ素イオン源としては、4級フッ化アンモニウム塩やフッ化水素酸等を用いることができる。スルフィド化合物を溶解させる溶媒は、スルフィド化合物およびフッ素イオンに対して溶解性を示すものであればよい。溶液中の化合物の濃度は、特に制限はないが、通常、1リットル中0.1〜10mMの割合である。化合物を含む溶液と金との接触温度は、−78℃〜20℃である。接触時間は、1〜40時間である。用いる金は、通常、微粒子状あるいは板状で用いられるが、その形状は特に制限はない。化合物の溶液中に金を浸漬してその表面にスルフィド化合物を単分子層吸着させる場合、金の浸漬濃度は特に制限はないが、均一な吸着薄膜作成のためには、溶液1リットル当り、50〜100mg程度である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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