ピナコール化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2003001935 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/21

基本情報

出願番号 特願平11-154671
出願日 1999/6/2
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-344747
公開日 2000/12/12
登録番号 特許第3051929号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ピナコール化合物の製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 有機合成用試薬として用いられているピナコール化合物を光化学的手法で製造する方法
目的 含窒素複素環に直接結合したカルボニル基を有するケトン化合物を可視光を使ってピナコール化合物に還元することのできる方法の提供。
効果 含窒素複素環に直接結合したカルボニル基を有するケトン化合物から、可視光線を使ってピナコール化合物に還元することができる。
技術概要
この技術において、含窒素複素環に直接結合したカルボニル基を有するケトン化合物と還元剤とを含んだ系に、含窒素複素環化合物からなる配位子を少なくとも一つ有するレニウム錯体を添加すると、可視光照射でもケトン化合物が還元されてピナコール化合物が得られること、および紫外光照射でもその反応効率が増加する。即ち、含窒素複素環に直接結合したカルボニル基を有するケトン化合物を還元剤の存在下で光照射によりピナコール化合物に還元する際に、含窒素複素環化合物からなる配位子を少なくとも一つ有するレニウム錯体を触媒として用いる。レニウム錯体は、含窒素複素環化合物からなる配位子を少なくとも1つ有するもので、紫外光及び可視光に対する光吸収バンドを有する。含窒素複素環化合物において、その環構成原子数は5〜100、好ましくは5〜20、より好ましくは5〜10であり、その原子数には、ヘテロ原子として窒素原子の他、酸素原子及び/又は硫黄原子を含んでいてもよい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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