ポリカルボシランおよびその製造方法

開放特許情報番号
L2003001928 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/21

基本情報

出願番号 特願平11-141344
出願日 1999/5/21
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-327788
公開日 2000/11/28
登録番号 特許第3089416号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ポリカルボシランおよびその製造方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 トリヒドロシラン類とジイン化合物との反応によるジビニルシラン部分構造(C=C−SiH−C=C)を主鎖に有するポリカルボシランの製造方法
目的 ジビニルシラン部分構造(C=C−SiH−C=C)を主鎖に有するポリカルボシランの製造方法、およびそれにより得られる新規なポリカルボシランの提供。
効果 トリヒドロシラン類およびジイン化合物から、各種材料の製造に有用なジビニルシラン部分構造を有するポリカルボシランを、効率よく、しかも安全に製造でき、その精製も容易である。このポリカルボシランを用いれば、例えばその溶液を塗布するなどした後、加熱し架橋させることにより熱安定性に優れる耐熱性材料を形成することができる。
技術概要
 
この技術は、トリヒドロシラン類が、パラジウム錯体触媒存在下、ジイン化合物と容易に反応し、ジビニルシラン部分構造(C=C−SiH−C=C)を主鎖に有するポリカルボシランを収率よく与える。ジイン化合物のトリヒドロシラン類に対するモル比は特に制限されるものではなく任意に選ぶことができるが、ポリカルボシランの収率を考慮すれば0.5〜2程度が望ましく、通常0.7〜1.5である。この技術において用いられるパラジウム触媒としては、その金属錯体、金属塩、金属や担持金属、また、それらに配位子を添加した系など、従来公知のものを含む各種のものが使用できる。パラジウム触媒の使用量は、適宜に定めることができるがトリヒドロシラン類に対するモル比として好ましくは通常0.000001〜0.5の範囲である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT