低級オレフィンの製造方法

開放特許情報番号
L2003001825
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/20

基本情報

出願番号 特願平10-325750
出願日 1998/11/17
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-143557
公開日 2000/5/23
登録番号 特許第3366935号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 低級オレフィンの製造方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 基礎化学品、天然ガス、石油資源
目的 天然ガス中に多く含まれるエタンをエチレンにする等、低級飽和炭化水素から低級オレフィンを合成する方法であって、低級オレフィンを高められた選択率及び収率で与える低級飽和炭化水素からの酸化的脱水素方法の提供。
効果 低級飽和炭化水素を効率よく酸化的に脱水素して、高められた選択率及び収率で低級飽和炭化水素と同炭素数の低級オレフィンを合成することができる。
技術概要
 
この技術は、低級飽和炭化水素から、酸素共存下での選択的脱水素により低級飽和炭化水素と同炭素数の低級オレフィンを製造する方法において、ジルコニア系酸化物超強酸にリチウム化合物を担持させた触媒を用いている。この触媒は、ジルコニア系酸化物超強酸にリチウム化合物単独又はリチウム化合物と遷移金属化合物の両方を担持させたものであり、ジルコニア系酸化物超強酸は、ジルコニア酸化物を担体とし、この上に酸根を担持させるか又は酸化ホウ素や周期律表の6B族元素の酸化物(第2酸化物)を担持させることによって得ている。また用いる低級飽和炭化水素は、エタンまたはプロパンが好ましい。酸化物超強酸にリチウムを担持させるには、ジルコニア系酸化物超強酸に対して、リチウム化合物を含有させ、空気中で焼成するように処理する。そして低級飽和炭化水素の酸化的脱水素法は、以上の触媒の存在下及び酸素の存在下で、低級飽和炭化水素を酸化的に脱水素反応させることにより実施される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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