緻密でエピタキシャルな金属酸化物膜の製造方法と、その金属酸化物前駆体及びその製造方法

開放特許情報番号
L2003001811 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/3/14
最新更新日
2015/8/20

基本情報

出願番号 特願平10-290577
出願日 1998/10/13
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-119099
公開日 2000/4/25
登録番号 特許第2976028号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 緻密でエピタキシャルな金属酸化物膜の製造方法と、その金属酸化物前駆体及びその製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 分離膜、コンデンサー、電解質膜、吸着型センサー、触媒、電極
目的 単結晶基板表面に有機低分子を存在させ、有機基結合金属化合物分子を単結晶基板上に規則的に配列させることからなる、緻密でエピタキシャルな金属酸化物膜の製造方法の提供。
効果 緻密でかつエピタキシャルな金属酸化物膜を工業的に有利に製造することができる。
技術概要
 
この技術により、緻密でエピタキシャルな金属酸化物膜を製造する場合、まず、支持体基板として、目的とする酸化物セラミックスとの格子定数の一致度が高くエピタキシャル成長の期待ができる単結晶の基板を選定する。次にこの基板をエキストランで超音波洗浄後、純水で洗浄、過酸化水素で超音波洗浄し、基板の汚れを除去した後、基板表面を極性有機低分子化合物に接触させ、この後、25〜100℃で10分乾燥させる。次いで金属有機酸塩、フェノール金属塩及び金属キレート化合物等の中から選ばれる。有機基結合金属化合物の有機溶媒溶液を、支持体基板上に塗布乾燥して、有機基結合金属化合物の薄膜を形成する。そして、基板上に形成された液皮膜を室温又は加温下で乾燥させた後、原料である有機基結合金属化合物が熱分解ないし酸化により、酸化物となり、更に結晶化してエピタキシャルで緻密なセラミックスとなるのに必要な温度まで加熱する。また、以上の製造において、好適には、有機基結合金属化合物に2−エチルヘキサン酸鉄を、単結晶基板にサファイアを、金属酸化物にヘマタイトを用いることが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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