可飽和吸収反射鏡

開放特許情報番号
L2003001755 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/3/7
最新更新日
2015/8/20

基本情報

出願番号 特願平10-227088
出願日 1998/8/11
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-058976
公開日 2000/2/25
登録番号 特許第2987437号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 可飽和吸収反射鏡
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 可飽和吸収反射鏡、可飽和吸収特性すなわち光強度の増大により光吸収率が一時的に低下する特性を有する可飽和吸収反射鏡。
目的 低強度の光が入射した時には吸収体として働く一方、高強度の光が入射した時には吸収体としての能力が飽和し、透明体として働く物質の実現。
効果 反射率の高い広帯域半導体可飽和吸収反射鏡を作製することが可能となり、広帯域半導体可飽和吸収反射鏡を利用したレーザーの発振閾値の低下、出力の向上、効率の向上という顕著な効果が得られる。
技術概要
この技術では、広帯域半導体可飽和吸収反射鏡の金属反射膜と半導体層の間に屈折率の異なる透明物質を配置し、反射率を向上させる。透明物質層は該広帯域可飽和吸収反射鏡を利用するパルスレーザにおける光スペクトルの全波長範囲において透明でなければならない。顕著な効果を得るためには、透明物質の屈折率は半導体層の屈折率よりも十分に小さく、金属の屈折率よりも十分に大きくなければならない。半導体層の屈折率は、一般的に使われる砒化ガリウム、砒化アルミ、砒化インジウムやそれらの混晶では、可視から近赤外領域においては、3〜4であり、一方金属の屈折率は、一般的に使われる金、銀では、波長2μm以下の光に対しては1以下である。したがって、透明物質7は可視から近赤外領域において、屈折率1.5〜2程度であることが望ましい。このような屈折率値をもつ物質は、一般に誘電体と称されているものから選択することが出来る。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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