円パターン描画装置

開放特許情報番号
L2003001600 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/3/7
最新更新日
2015/8/19

基本情報

出願番号 特願平09-275414
出願日 1997/10/8
出願人 工業技術院長
公開番号 特開平11-109906
公開日 1999/4/23
登録番号 特許第3023772号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 円パターン描画装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 集束電子、集束イオンビーム、円パターン描画、描画精度
目的 精度が、使用する変換素子による制限を受けず、高精度の真円パターンを発生する円パターン描画装置の提供。
効果 円パターン描画装置は、アナログ回路に基づくcos関数変換素子やsin関数変換素子を利用した円パターン描画装置を改善し、真円度を補正したので、描画精度を飛躍的に向上することが可能になる。また、真円度の補正をX系統とY系統とに分離して行うようにしたので、真円度誤差がX系統とY系統とで異なる場合にも対応することが可能である。
技術概要
この技術の円パターン描画装置は、描画する円パターンの下限設定角度から上限設定角度までの回転角度信号を連続出力する角度信号発生部と、角度信号をcos関数値変換するcos関数変換素子およびsin関数値に変換するsin関数変換素子と、描画する円の半径設定値信号とcos関数変換素子の出力及びsin関数変換素子の出力とをX乗算回路、Y乗算回路でそれぞれ乗算して、ビームを偏向、走査させて照射面に円パターンを描画するX座標信号,Y座標信号をビーム偏向系に出力するXY座標発生部とを有する円パターン描画装置とする。そして、回転角度信号を入力とし、回転角度信号に対応するcos関数変換素子およびsin関数変換素子の真円度誤差を記憶した値により補正した値を出力する真円度補正部と、真円度補正部の出力をX座標信号,Y座標信号に加算するXY座標補正部とを設けたものとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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