リフロー炉の制御に好適な加熱条件設定装置および加熱炉内の被加熱物の熱解析装置

開放特許情報番号
L2003000537 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/2/14
最新更新日
2003/2/14

基本情報

出願番号 特願平10-119423
出願日 1998/4/28
出願人 富士通株式会社
公開番号 特開平11-201647
公開日 1999/7/30
登録番号 特許第3274095号
特許権者 富士通株式会社
発明の名称 加熱炉内の被加熱物の熱解析装置及びそれを用いたリフロー炉の制御装置並びにそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
技術分野 電気・電子、情報・通信、その他
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア、加熱・冷却
適用製品 コンベア式電気加熱炉加工工程のある炉内温度条件設定装置、被加熱物の熱解析システム等
目的 実際に加熱炉内に被加熱物を入れた場合とほぼ同様の温度分布結果を得ることが可能な熱解析装置を提供し、必要最小限の測定で対象となる被加熱物を最適に加熱することができる加熱炉の加熱条件設定装置を提供する。
効果 従来の解析モデルを用いるよりも短時間で解析計算を行うことができ、しかもモデル化による誤差のない正確な解析を行うことが可能となる。プリント配線板の熱解析、並びにその熱解析に基づいて行う加熱条件の算出、及び複数の加熱源の制御を、従来に比して短時間で正確に行うことができる。
技術概要
 
この発明では、入力されたプリント配線板、部品、ギヤップ空間及び端子空間の形状から直方体モデルを設定し、この直方体モデルに対して物性値の補正を行い、直方体モデルを格子状に分割して計算格子を作成するとともに、その計算格子で分割された各計算要素毎に物性値を定義する。入力された加熱条件から時間の経過に伴って変化する被加熱物の輻射境界条件と熱伝達境界条件とを設定し、各計算要素毎の、設定された輻射境界条件と熱伝達境界条件とさらに被加熱物内における熱伝導に基づいて、各計算要素毎の温度分布を被加熱物の所定範囲の移動毎に算出して出力する。このように、入力された形状値から直方体モデルを設定し、得られた直方体モデルに対して、それぞれ物性値の補正を行って、各直方体モデルに実際の物性値を適用させるので、計算要素の数を大幅に削減して、短時間で解析計算を行うことができ、しかもモデル化による誤差のない正確な解析を行うことができる。
実施実績 【有】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 非独占、譲渡不可の通常実施権
対価条件(一時金) 【要】委細面談
対価条件(ランニング) 【要】委細面談
希望譲渡先(国内) 【可】 
希望譲渡先(国外) 【可】 

登録者情報

登録者名称 富士通株式会社

技術供与

技術指導 【可】
期間 委細面談
技術指導料 【要】委細面談

その他の情報

海外登録国 欧州特許庁
関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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