フタロシアニン誘導体新規化合物及びそれを製造する方法並びに自己組織化膜

開放特許情報番号
L2003000200 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2003/1/24
最新更新日
2015/8/18

基本情報

出願番号 特願2000-070896
出願日 2000/3/14
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-261681
公開日 2001/9/26
登録番号 特許第3345642号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 フタロシアニン誘導体新規化合物及びそれを製造する方法並びに自己組織化膜
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 電気的、光学的な手段で測定するセンサー材料として有用な自己組織膜。
目的 安定な自己組織膜を容易に製造できる安定な新規フタロシアニン化合物及びそれのの製造方法並びに自己組織化膜を提供する。
効果 従来法よりも多点で基板表面に結合しているため、化学的により安定な自己組織膜が得られる。
技術概要
式(化1)で示されるフタロシアニン誘導体化合物であり、式中、nは2〜18、Rは炭素数2〜18の直鎖、又は分岐鎖アルキル基、Mは2個の水素原子、2価金属原子、置換基を有する3価金属原子、又は置換基を有する4価金属原子である。この化合物は、式(化2)(nは2〜18)で示される4,5−(ジチオジアルコシキ)フタロニトリルと、R−S−S−R(Rは炭素数2〜18の直鎖又は分岐鎖アルキル基)で示されるジアルキルジスルフィドを塩基及び溶媒の存在下に120〜150℃で20分〜2時間加熱して得られる。自己組織膜は、フタロシアニン誘導体化合物のジクロロメタン等の溶液に金基板を浸して薄膜を形成し、室温で乾燥させて得られる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【改善】
改善効果1 従来法よりも多点で基板表面に結合しているため、化学的により安定な自己組織膜が得られる。
改善効果2 自己組織膜を得る安定なフタロシアニン誘導体を容易に製造できる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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