絶対スケール付顕微干渉計

開放特許情報番号
L2002010212 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2002/11/9
最新更新日
2015/8/18

基本情報

出願番号 特願平11-244672
出願日 1999/8/31
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-066107
公開日 2001/3/16
登録番号 特許第3331370号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 絶対スケール付顕微干渉計
技術分野 機械・加工
機能 検査・検出
適用製品 レーザ干渉計、二光束干渉顕微鏡
目的 測定のスケールを正確なレーザ干渉計を使って、長さの標準にトレーサブルな絶対スケールの値に校正することができ、測定する試料の顕微鏡光軸方向の位置と、二光束干渉顕微鏡本体において試料の反射光からの位相情報が同時に測定することができるようにした絶対スケール付顕微干渉計の提供。
効果 二光束干渉顕微鏡本体からのデータと、レーザ干渉計からの絶対位置データとにより、NA修正係数を求めることができ、正確な干渉縞間隔を基準とした二光束干渉顕微鏡による測定を行うことができる。
技術概要
この技術では、アクチュエータにより試料載置テーブル上の試料を光軸方向に走査した場合、二光束干渉顕微鏡における画像の1画素に注目すると、試料の絶対位置と反射光のインターフェログラムとの関係が得られる。インターフェログラムの形は光源のコヒーレンス度、対物レンズの倍率、開口絞りの開度により変化する。そこで、この技術では、測定条件において、0次の位置を中心として適当な数のボトム間の絶対変位(あるいはピーク間の絶対変位)を(ボトム数−1)、(あるいは(ピーク数−1))で除算すれば、干渉縞間隔NA↓Cλ/2が求まる。適当な画素数、画素位置でNA↓Cλ/2を求めその平均値から、より正しい値求めることができる。その後、試料上で観測される、干渉縞の形、あるいは縞走査法を行うことによって、長さの標準にトレーサブルな表面形状測定を行うことができる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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