高分子−金属クラスタ−複合体の製造方法

開放特許情報番号
L2002009764 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2002/10/5
最新更新日
2015/8/18

基本情報

出願番号 特願2000-133481
出願日 2000/5/2
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-316481
公開日 2001/11/13
登録番号 特許第3309139号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 高分子−金属クラスター複合体の製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造、その他
適用製品 異方性導電材料、磁性材料、非線形材料、空間制御触媒
目的 金属クラスターの配列が特有なミクロドメイン構造を採り、その空間配列が三次元で容易に制御される高分子-金属クラスタ-複合体を製造する方法を提供する。
効果 溶剤を用いないドライプロセスにより、任意のブロックコポリマー中に金属クラスターが特有なミクロドメイン構造を採る高分子-金属クラスタ-複合体を製造できる。
技術概要
 
固体高分子化合物に、そのガラス転移温度以上で重金属化合物の蒸気を接触させて高分子-金属クラスタ-複合体を製造する方法であり、該固体高分子化合物には互いに非相溶性でかつ重金属化合物に対する還元力に差がある2種類以上のポリマー鎖がそれぞれの末端で結合したブロックコポリマーを用いる。数平均分子量5、000〜1,000,000、ガラス転移温度30〜200℃のポリスチレン-b-ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン-b-ポリブチルメタクリレート等である。重金属化合物は処理条件下で蒸気となる鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト等の重金属錯化合物;トリカルボニル(シクロブタジエン)鉄、ジカルボニル(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ロジウム等である。反応は酸素分圧1mmHg以下の窒素、アルゴン等の不活性雰囲気中で行う。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 溶剤を用いないドライプロセスにより、任意のブロックコポリマー中に金属クラスターが特有なミクロドメイン構造を採る高分子-金属クラスタ-複合体を製造できる。
改善効果2 構成ポリマーの分子量を調整することで、金属クラスターの配列を島状構造、ラメラ状構造、棒状構造等に、また配列周期を任意に調製できるので、異方性を有する多様な導電材料や磁性材料、非線形材料等が得られる。
改善効果3 ブロックポリマーの種類を変えることにより、高分子-金属クラスタ-複合体高分子化合物の特性を自由に調製できる。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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