ケイ素で縮環されたポリジフェニルアミン化合物、及び該化合物を用いた有機薄膜素子

開放特許情報番号
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開放特許情報登録日
2002/9/7
最新更新日
2015/8/17

基本情報

出願番号 特願2000-133913
出願日 2000/5/2
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2001-316457
公開日 2001/11/13
登録番号 特許第3289143号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ケイ素で縮環されたポリジフェニルアミン化合物、及び該化合物を用いた有機薄膜素子
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 5,10−ジヒドロ−5H−フェナザシリン、有機薄膜発光素子の正孔輸送特性を保有する素材
目的 膜形成性にすぐれたフェナザシリン化合物の製造方法の提供、並びに、フェナザシリン化合物からなる有機薄膜素子の提供。
効果 新規なフェナザシリン化合物を高分子化することで、成形加工でも非常に簡便な手法で薄膜化が可能な素材を提供できる。さらに発光素子およびエレクトロクロミズム素子の構成材料として有用な材料を提供することが出来る。
技術概要
この技術では、氷浴中で1.29g(2.1mmol)のビス(2,4−ジブロモフェニル)−(2−ナフチルメチル)アミンに20mLのエーテルを懸濁させた後に3mLのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.6M)を加える。懸濁液が均一になったところで、さらにジ−n−ブチルジクロロシランを0.44g(2.1mmol)加え、沈殿が生成した後に氷浴を外して12時間かくはんする。反応液を水を加えてエーテルで抽出した後にシリカゲルのカラムで精製することにより、0.51g(0.84mmol)の2,8−ジブロモ−10,10−ジ−n−ブチル−5−(2−ナフチルメチル)−5,10−ジヒドロフェナザシリンを単離する。得られた化合物は文献未記載の新規化合物である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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