ケイ素重合体の薄膜積層体及びその製造方法

開放特許情報番号
L2002001804 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2002/2/9
最新更新日
2015/8/14

基本情報

出願番号 特願平10-069646
出願日 1998/3/19
出願人 工業技術院長
公開番号 特開平11-269651
公開日 1999/10/5
登録番号 特許第3141104号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ケイ素重合体の薄膜積層体及びその製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 膜厚方向の一方から他方に向って酸化度が漸次増大した組成のケイ素化合物重合体で構成された薄膜積層体及びその製造方法
目的 工業的に有用な種々の機能をもち、かつ基体との密着性に優れ、剥離しにくい新規なプラズマ重合薄膜の提供。
効果 基体との密着性に優れ、剥離しにくく、機能性膜として各種用途に有用である。また、薄膜積層体を効率よく製造することができる。
技術概要
 
この技術では、原料として用いられる有機ケイ素化合物としては、高真空下において50℃程度の温度で蒸発し、気体状になるものであればよく、特に制限されず、様々な化合物を用いることができる。このような有機ケイ素化合物としては、シラン化合物、シロキサン化合物及びシラザン化合物が好適である。薄膜積層体は、有機ケイ素化合物をプラズマ重合させて形成してなる、膜厚方向にわたって、酸化度が漸次増大した組成のケイ素化合物から構成され、基体に対する密着性に優れ、剥離しにくいものである。基体表面に、ガス状有機ケイ素化合物をプラズマ重合させるが、このプラズマ重合は、従来公知のプラズマ重合装置を用いて行うことができる。プラズマ重合を行う際の条件としては、プラズマ雰囲気中に酸素を導入し、その量を段階的に増加又は減少させることが必要である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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