荷電ビーム描画方法

開放特許情報番号
L2002000463 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2002/1/12
最新更新日
2015/6/22

基本情報

出願番号 特願平09-098227
出願日 1997/3/31
出願人 株式会社東芝、東芝機械株式会社
公開番号 特開平10-284392
公開日 1998/10/23
登録番号 特許第3085918号
特許権者 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構、株式会社ニューフレアテクノロジー
発明の名称 荷電ビーム描画方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 LSI、荷電ビーム描画方法
目的 主・副2段の偏向によりパターンを描画するに際し、描画スループットの低下を招くことなく、任意の主偏向位置でサブフィールドを従来より高精度に描画できる荷電ビーム描画方法の提供。
効果 主・副2段の偏向によりパターンを描画するに際し、荷電ビームの主偏向位置に依存する副偏向の感度ずれを検出しておき、描画時にこれを補正することによって、描画スループットの低下を招くことなく、任意の主偏向位置でサブフィールドを従来より高精度に描画することが可能となる。
技術概要
この技術では、本来の描画前に荷電ビームの主偏向位置に依存して生じる副偏向の感度ずれを予め検出するために、前記試料が載置されたステージを停止した状態で、主偏向により荷電ビームを各サブフィールドに順次位置決めすると共に、各サブフィールド位置毎に副偏向により複数のマークパターンをそれぞれ描画した後、プロセス処理を施して実際にマークパターンを形成し、次いで各サブフィールド毎に形成された複数のマークパターンを測長装置により検出し、各々のマークパターンが本来あるべき位置とのずれを求め、このずれに基づいて主偏向位置による副偏向の感度ずれを検出する工程と、本来の描画時に、前記検出された副偏向の感度ずれを補正する工程とを含む。これにより、荷電ビームの主偏向位置、即ちサブフィールドのフレーム内における描画位置に応じて、予め副偏向の感度ずれを検出しておくことにより、描画時には主偏向位置に依存する副偏向の感度ずれを補正することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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