高収率なポリシラン製造方法

開放特許情報番号
L2001012799
開放特許情報登録日
2001/11/17
最新更新日
2008/4/25

基本情報

出願番号 特願平10-530738
出願日 1998/1/7
出願人 大阪瓦斯株式会社
公開番号 WO1998/030618
公開日 1998/7/16
登録番号 特許第3177683号
特許権者 大阪瓦斯株式会社
発明の名称 ポリシランおよびその製造方法
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 ポリシラン製造装置
目的 取り扱いが容易で、高収率のポリシラン製造方法を完成させる。
効果 光、電子材料用素材を提供し、情報技術分野の
技術概要
 
光、電子材料や、情報技術分野に広く適用が期待されている、珪素系高分子材料である、ポリシランの製造方法。従来、還元剤として取り扱いの困難な、金属ナトリウムが使用されていたが、本技術では、金属ハロゲン化合物などを用いた触媒を用いることにより還元剤として、金属マグネシウムを使用し、かつ室温で還元重合させることができる。 得られたポリシランは、分子量がそろっており、品質が安定している。溶媒に溶けない使用不能なポリシランを含まない。ポリシラン中の酸素含有量が低い。等の特徴を有している。
実施実績 【有】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 大阪ガス株式会社

その他の情報

その他の提供特許
登録番号1 3106205
登録番号2 3116117
関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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