光触媒膜の形成方法

開放特許情報番号
L2001011260
開放特許情報登録日
2001/9/29
最新更新日
2012/8/24

基本情報

出願番号 特願平11-104914
出願日 1999/4/13
出願人 シャープ株式会社、大阪府、CBC株式会社
公開番号 特開2000-296332
公開日 2000/10/24
登録番号 特許第4521644号
特許権者 シャープ株式会社、CBC株式会社、地方独立行政法人大阪府立産業技術総合研究所
発明の名称 光触媒膜の形成方法
技術分野 機械・加工、金属材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、表面処理
適用製品 光触媒シート、高活性で強い膜強度の光触媒膜を低温で形成する方法
目的 高活性で強い膜強度の光触媒膜を耐熱性の低いプラスチック上に設けることができる低温での光触媒膜の形成方法の提供。
効果 励起線を照射をしながら成膜を行うことにより、膜強度の高い高活性な光触媒膜を低温で形成することができ、耐熱温度の低いABS樹脂等のプラスチックにも高活性な光触媒膜を形成することができる。フッ素樹脂やシリコーン樹脂のフイルム自身を基板とした光触媒シートは柔軟性があるので、各種工業製品の表面に応じて容易に貼り付けることができる。
技術概要
この技術では、耐熱性の低い基板に強固に高活性な光触媒膜を形成するために、一般的な薄膜の形成方法である蒸着法またはスパッタ法を採用するとともに、基板を加熱することなく、しかも基板の温度上昇を抑制しながら成膜できるように、光触媒となる金属原料または金属酸化物原料が置かれた空間内に存在する電子、イオン、活性粒子のエネルギーを利用することにより低温で光触媒膜を形成するものである。蒸着法またはスパッタ法によって金属原料または金属酸化物原料を分子レベルあるいは原子レベルまで一旦分解し、基板上に成膜を行って光触媒膜を形成するが、成膜時に励起線を照射することによって原料分子あるいは原料原子が高エネルギー状態になるため、形成される光触媒膜の結晶化を低温で促進することができ、光触媒膜の結晶性がよくなって高活性化を達成できる。また、励起線を基板に照射することにより、基板の表面が電子やイオンによりきれいになって表面改質され、膜強度が高まる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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