ポリマーネットワークとしては構造規則性を有する熱可塑性ブロックコポリマーを、溶媒としては異方性を有するサーモトロピック液晶を用い、混合加熱という簡便な方法で製造できることを特徴とする応答異方性を示す高分子ゲル

開放特許情報番号
L2001006320 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2001/4/21
最新更新日
2015/8/13

基本情報

出願番号 特願平11-255896
出願日 1999/9/9
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2001-081274
公開日 2001/3/27
登録番号 特許第3051933号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 応答異方性を示す高分子ゲル
技術分野 情報・通信、機械・加工、有機材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 表示材料、構造材料、駆動材料
目的 高分子ゲルは、不溶化した高分子の3次元架橋体(ポリマーネットワーク)が水などの溶媒で膨潤したものである。刺激応答性を示す高分子ゲルが開発されているが、ポリマーネットワークはランダム構造であり、応答異方性は示さない。また、その応答は溶媒による膨潤収縮を利用しているために、刺激応答は非常に遅い。本発明はポリマーネットワークとしては構造規則性を有する熱可塑性ブロックコポリマーを、溶媒としては異方性を有するサーモトロピック液晶を用い、混合加熱という簡便な方法で新規な高分子ゲルを作製することを目的としている。
効果 本発明の高分子ゲルは、水や有機溶媒および架橋剤を使用しないものであり、高分子ゲルを作製する操作も簡単で、多くのエネルギーを必要としない。また、液晶を溶媒として含んでいるために、電気や光などの刺激に対して応答することができる。膜の状態にすれば、表示材料として用いることができ、バルクの状態で用いれば形状記憶性などを利用してアクチュエーターとして利用できる。さらに、射出成形したり、押し出し成形するなどの手段により加工する場合は、汎用プラスチックの成形機がそのまま適用でき、環境対応材料としてリサイクル可能である。
技術概要
スチレン−エチレン・ブチレン−スチレン(SEBS)などのブロックコポリマーとアルキルシアノビフェニルなどのサーモトロピック液晶を混合することにより作製する。両者を容器に入れ、外部加熱により加熱し、均一になるまで撹拌する。これを室温で冷却すると、相分離が起こり、高分子ゲル構造が得られる。ブロックコポリマーと液晶の割合は、適宜目的に応じて変更することができるが、一般的にはブロックコポリマー対液晶が、7対3〜2対8程度であることが好ましい。ブロックコポリマーの割合が多いと硬いゲルになり、液晶の割合が多いと柔らかいゲルになる。ゲルの外形は冷却前に型に流し込むか、冷却後に型を打抜くことによって、さまざまな形状が得られる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT