工具やベアリング等の機械要素部品の基準表面に存在する欠損部や劣化部、あるいは表面荒れや表面粗さ等の表面欠陥を改善するための機械要素部品の表面改善方法。

開放特許情報番号
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開放特許情報登録日
2001/4/7
最新更新日
2015/8/13

基本情報

出願番号 特願平11-026143
出願日 1999/2/3
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-218445
公開日 2000/8/8
登録番号 特許第2995300号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 機械要素部品の表面改善方法
技術分野 機械・加工
機能 表面処理、機械・部品の製造
適用製品 工具やベアリング等の機械要素部品の表面に存在する欠損部や劣化部、あるいはその表面欠陥を改善する表面改善装置。
目的 機械要素部品の使用に伴う表面の劣化部や欠損部、並びに表面荒れや表面粗さ等の表面欠陥を、いずれも高精度に改善することのできる表面改善方法を提供することを目的とする。
効果 基準表面での結晶の成長が最小となる条件で機械要素部品に原子層成長法を施すようにしているため、使用に伴う表面の劣化部や欠陥部、並びに表面荒れや表面粗さ等の表面欠陥を、いずれも高精度に改善することが可能となり、しかも機械要素部品の表面を原子レベルで改善することができるため、マイクロオーダーやナノオーダーで微細構造化された機械要素部品に対しても適用することが可能であり、また、原料使用量も最小限となり、表面改善の際のコストの点でも有利となる。
技術概要
機械要素部品の表面処理方法としては、従来よりCVD(chemical vapor deposition)法が利用されているが、このCVD法にあっては、表面に凹凸が存在していた場合、この凹凸が増長される事態を招来し、すなわち、一般にステップフローモードで結晶が成長していくため、機械要素部品の表面に凹凸がある場合、その凸部に対する結晶の成長が支配的となり、当該凸凹が一層顕著となる結果を招来し、これら表面欠陥を改善することが困難であった。そこで、機械要素部品の基準表面に存在する表面欠陥を改善するための方法において、前記機械要素部品を所定の反応室に配置する工程と、前記基準表面での結晶の成長が最小となる条件で前記機械要素部品に原子層成長法を施すべく前記反応室に気相原料を間欠的に供給する工程とを含むことにより、基準表面での結晶の成長が最小となる条件で機械要素部品に原子層成長法を施すようにしているため、使用に伴う表面の劣化部や欠陥部、並びに表面荒れや表面粗さ等の表面欠陥を、いずれも高精度に改善することが可能となる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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