350〜500℃での焼成で製造可能なスピネルの製造方法。

開放特許情報番号
L2001001349 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2001/2/10
最新更新日
2015/8/12

基本情報

出願番号 特願平10-262868
出願日 1998/9/17
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-086234
公開日 2000/3/28
登録番号 特許第2981553号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 スピネルの製造方法
技術分野 無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 スピネル
目的 スピネルセラミックス(MgO・Al↓2O↓3)はスピネル粉体を焼結して製造されるが、スピネル紛体の製造には、両成分の固相反応による場合も、両成分の塩から共沈澱物を生成させ、これを仮焼する場合も、いずれも高温を必要とする。低温における仮焼で製造可能なプロセスの提供を目的とする。
効果 両成分の塩から前駆体であるハイドロタルサイトを生成させ、これを350〜500℃の焼成と水溶液中での再生を繰り返すことによってスピネル紛体を生成させているので、製造温度を飛躍的に低温化し、その結果、高温用構造材料、高温用透光性セラミックスとしてのスピネルの用途拡大が期待される。
技術概要
 
構造式 Mg↓1−xAl↓x(OH)↓2Aa・bH↓2O A:無機陰イオン x:1/5〜1/3 a:x/n(nはAイオンの価数)で表されるハイドロタルサイト様化合物からなるスピネル製造用前駆体を350〜500℃で焼成・水溶液中で再生させることを繰り返し行うことによって、前駆体を徐々にスピネル紛体に転化する。出発物質である両成分の塩(炭酸塩、塩化物、硝酸塩等)はMg/Al原子比が2〜4(構造式でx:1/3〜1/5に対応)になる様に設定され、Na↓2CO↓3とNaOHによりpH10に保たれると、両成分の原子比に対応した前駆体が得られる。遠心分離と蒸留水による洗浄を数回繰返す。得られた前駆体を400℃で2時間加熱分解して酸化物に転化した後、Al量の少なくとも等モル程度以上のNa↓2CO↓3水溶液中に一昼夜放置すると前駆体が再生する。この焼成と両生を4回繰返すと、焼成物は次第に凝集して大きな粒子になってくる。この生成物を硫酸で処理し、硫酸で酸化マグネシウムを除去して得られる生成物は、スピネルとしての高い結晶性を示した。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

技術供与

掲載された学会誌 【有】
掲載学会誌名1 Chem.Mater.Vol.10,(1998),pp4055−4061)
その他の開示 【有】
その他1 日刊工業新聞3月31日、化学工業時報9月

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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