| 出願番号 |
特願平11-221218 |
| 出願日 |
1999/8/4 |
| 出願人 |
工業技術院長 |
| 公開番号 |
特開2001-048546 |
| 公開日 |
2001/2/20 |
| 登録番号 |
特許第3146359号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
超微粒子酸化マンガン粉体及びその製造方法 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
半導体部品、ガラス、ハードディスク等の表面研磨等に用いる研磨用の粉体 |
| 目的 |
本発明は、化学的純度が高くて、粒子径の小さく、粒度分布の揃った研磨用粉体を提供する。 |
| 効果 |
本発明は、平均の一次粒子径が５０ｎｍ以下の酸化マンガン（ＭｎＯ2 、Ｍｎ2 Ｏ3 、Ｍｎ3 Ｏ4 等の少なくとも一種類以上を含有）微粒子から成ることを特徴とする酸化マンガン粉体及びその製造方法に係るものであり、本発明により、１）研磨用粉体として有用な超微粒子酸化マンガン粉体を提供することができる、２）化学的純度が高くて、粒子径の小さい、粒度分布の揃った粉体を製造することができる、３）従来の機械的粉砕法によらない、新しい化学的方法による粉体の製法を提供することができる、４）上記粉体は、研磨後の除去の問題がなく、 |
技術概要
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化学的方法により作製して成るマンガン酸化物の粉体であって、平均の一次粒子径が５０ｎｍ以下の酸化マンガン（ＭｎＯ2 、Ｍｎ2 Ｏ3 、Ｍｎ3 Ｏ4 等の少なくとも一種類以上を含有）微粒子から成る酸化マンガン粉体、また、マンガンイオンを含む溶液からアンモニア性アルカリ溶液、過酸化水素溶液等の添加により水酸化マンガンを生成させた後、この沈殿を母液から分離し、この沈殿を有機溶剤に分散させた後、１２０℃以下で乾燥、粉砕することを特徴とする酸化マンガン粉体の製造方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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