窒素原子に由来する特異な反応性を有する新規ポリマー用モノマーとして有用な2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2000007268 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2000/12/2
最新更新日
2015/8/12

基本情報

出願番号 特願平10-124403
出願日 1998/5/7
出願人 工業技術院長
公開番号 特開平11-322747
公開日 1999/11/24
登録番号 特許第2893182号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物とその製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造、表面処理、洗浄・除去
適用製品 機能性ホスト化合物・ぺリ位を架橋とする新規ポリマー用モノマー・重金属補捉剤・界面活性剤製造原料 
目的 ナフタリン環の1,8位及び4,5位に、2−アザトリメチレン鎖(−CH↓2−NH−CH↓2−)が環状に置換した2,7−ジアザ1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物は、骨格にヘテロ原子が存在することで各種の用途が期待されたが、有機合成化学上の困難性から未開拓であった。本発明は基本化合物である式(I)のほか、式(T)の2,7−ジR置換誘導体式(U)(Rは、ベンジル基、スルホニル基、アシル基、カルボアルコキシ基)、及びこれら化合物の製造方法の提供を目的とする。
効果 本発明によって、新規化合物として、2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンとその2,7−ジ置換誘導体が得られる。これらの化合物は、窒素原子に帰因する特異な反応性を有すると共に、2個のヘテロ原子がビスぺリ位に位置するという特異な分子構造を具有することから、ぺリ位を架橋とする新規ポリマー用モノマーとして有用であるほか、重金属補捉剤や界面活性剤製造原料としても利用出来る。
技術概要
本発明において、2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン骨格の合成は、1,4,5,8−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタレン(式W)とアミン類とを反応させることにより完成される。即ち、(式W)とベンジルアミンとを塩基の存在下で反応させると、2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(式T)の2,7−ジベンジル置換体(式TTa、R=ベンジル基)が得られる。又、(式W)を塩基の存在下でスルホンアミドと反応させると、(式T)の2,7−ジスルホニル置換体(式TTb、R=スルホニル基)が得られる。又、(式TTa)は、塩化蟻酸エチルで処理すると、2,7−ジカルボアルコキシ置換体(式TTd、R=カルボアルコキシ基)に変換され、(式TTd)をアルカリ処理すれば、(式T)に脱炭酸される。(式T)は、(式TTb)を臭化水素で処理しても得る事が出来る。一方、(式T)をスルホニル化剤で処理すれば、ジスルホニル置換体(式TTb)が生成し、アシル化剤で処理すればジアシル置換体(式TTc、R=アシル基)が生成する。又、(式T)を酸化処理すると、脱水素化合物(式TTT)が得られる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT