新規メタロセン系錯体を触媒前駆体として用いる光電変換材料として有望なポリシラン化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2000005697 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2000/9/9
最新更新日
2015/8/11

基本情報

出願番号 特願平10-201554
出願日 1998/7/16
出願人 工業技術院長
公開番号 特開2000-034351
公開日 2000/2/2
登録番号 特許第2952355号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ポリシラン化合物の製造方法
技術分野 有機材料、情報・通信、無機材料
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 光電変換材料、発光材料、フォトレジスト系の描画材料等に利用できるポリシラン及びその製造に適した新規メタロセン系触媒。
目的 本発明は、合成が極めて容易であり、また異性体の分離の必要のない第4族メタロセン錯体を触媒とすることによって、配位性官能基を有する有機トリヒドロシランにも適用できるポリシラン化合物の製造方法を提供する。
効果 従来法に比べ高分子量のポリシランが得られ、又、環状のオリゴマーの副生が抑えられる。又、配位性官能基など特殊な官能性置換基をもつポリシラン類も合成が可能となった。さらに、本発明により、導電材料、発光材料、光電変換材料、非線形光学材料、フォトレジスト、セラミックスプリカーサー、重合開始剤としてのポテンシアルをもつポリシランを簡便、安全かつ効率的に製造することができる。
技術概要
 
第4族クロロメタロセン錯体とフェノール化合物とを反応させることにより容易に得られるクロロ(アリーロキシ)メタロセン錯体を触媒前駆体として用いると、有機ヒドロシラン化合物の脱水素重合反応が、高重合度、高収率、高選択的に進行すること、さらに、種々の官能基を有する有機ヒドロシランも出発原料として用いることができる利点がある。反応はガラス容器中、窒素雰囲気下で行う。グローブボックス中で、塩化{(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル)フェノキシ}ビス(シクロペンタジェニル)ジルコニウム(0.04モル)をトルエ200mlに溶解、−78℃で等モル量のn−ブチルリチウムを滴下する。反応溶液を0℃で30分間撹拌し、フェニルシラン(6.5モル)を加え、室温で7日間反応させる。少量のTHFを加えて触媒を失活、溶媒を留去して、ゴム状のシンジオタクチックポリ(フェニルシラン)を得た。同様な方法で、ポリ(P−チオメチル)フェニルシラン、ポリ(P−ジメチルアミノ)フェニルシラン、ポリ(P−メトキシ)フェニルシランが合成された。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

技術供与

掲載された学会誌 【有】
掲載学会誌名1 J.Organomet.chem

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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