光学的に異なったピッチのいわゆるフレネルゾーンプレートを集光レンズの直前、又は直後に配置することにより、エネルギー集中部分(ホットスポット)の無いビームとしたレーザー光集光照射装置。

開放特許情報番号
L2000005027 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2000/7/28
最新更新日
2015/8/11

基本情報

出願番号 特願平09-065973
出願日 1997/3/19
出願人 工業技術院長
公開番号 特開平10-260378
公開日 1998/9/29
登録番号 特許第2884075号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 レーザー光集光照射装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 レーザー光集光照射装置
目的 大出力レーザ光を周辺部が強く、中心部が弱い強度分布とし、エネルギー集中部分(ホットスポット)の無いビームを得る。
効果 光学的に異なったピッチのいわゆるフレネルゾーンプレートを集光レンズの直前、又は直後に配置することにより、エネルギー集中部分(ホットスポット)の無いビームが得られる。
技術概要
光学的に異なったピッチの複数のフレネルゾーンプレートを同心上に共存させた単位セルと、この単位セルと相補的な位置関係にある同一パターンの単位セルとを同一面上に、ランダムに同一個数配置することによって作った複合フレネルゾーンプレートを、集光レンズの直前、又は直後に配置することにより、エネルギー集中部分(ホットスポット)の無いビームとする。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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