水素とともに高温に保持されたヒドロキシル基を有する芳香族化合物の脱ヒドロキシル化反応抑制方法

開放特許情報番号
L2000004638 この特許の事業構築のヒントや可能性をご覧頂けます
開放特許情報登録日
2000/6/10
最新更新日
2015/8/11

基本情報

出願番号 特願平10-100268
出願日 1998/3/27
出願人 工業技術院長
公開番号 特開平11-279092
公開日 1999/10/12
登録番号 特許第2873963号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 脱ヒドロキシル化反応の抑制方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 水素とともに高温に保持されたヒドロキシル基を有する芳香族化合物の脱ヒドロキシル化反応抑制技術
目的 水素とともに高温に保持されたヒドロキシル基を有する芳香族化合物の脱ヒドロキシル化反応を抑制する方法を提供することを目的とする。
効果 本発明方法は、脱ヒドロキシル化反応を効果的に抑制するが、そのアルキル芳香族化合物のアルキル化反応は阻害しない。3,5−ジメチルフェノールに反応温度700℃で水素を流通させた実施例では、生成したクレゾール/キシレンのモル比が、添加剤無しでは1.8であるのに対し、本発明の添加剤を添加したものは、いずれも2.7であった。  被処理原料として3,4−ジメチルフェノールを使用すると、生成したクレゾール/キシレンのモル比が、添加剤無しで6.1に対し、本発明の添加剤を添加したものは、7.2となる。
技術概要
 
本発明は、水素とともに高温に保持されたヒドロキシル基を有する芳香族化合物の脱ヒドロキシル化反応を抑制するために、ジ低級アルキルカーボネート及び/又はジ低級アルキルケトンを用いることを特徴とする。 実施例においては、ジ低級アルキルカーボネートとして、ジメチルカーボネート及びジエチルカーボネートが、ジ低級アルキルケトンとしてアセトンが使用されている。 ヒドロキシル基を有する芳香族化合物の脱ヒドロキシル化反応が起きる温度は、650℃以上、特に700℃以上であり、その上限温度は、通常750℃である。 本発明による脱ヒドロキシル化反応抑制効果は、ヒドロキシル基の隣接位置にアルキル基を有しないものに対して、特に大きい。 本発明は、ヒドロキシル基を有する芳香族化合物が水素とともに高温に保持される芳香族油の処理に適用される。このような処理には、窒素化合物や硫黄化合物を除去するための水素化精製処理や、芳香族油中に含まれるアルキル芳香族化合物の脱アルキル化処理等が包含される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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