ガスクロマトグラフ/大気イオン化質量(GC/APIMS)分析法を用いた分析方法

技術の内容 半導体の製造では、成膜工程や処理工程において様々なガスがプロセスチャンバー内に供給されるが、ガス中に不純物が存在した場合、製造された半導体に影響を及ぼす。
そこで、ガス中に含まれるppbオーダーというごく微量な不純物の濃度を測定することが行われる。本技術は、その手法の一つである、ガスクロマトグラフ/大気イオン化質量(GC/APIMS)分析法に関する。
製品イメージ キャリアーガスに精製された希ガスを混合するなど、高い精度での分析を可能としたガスクロマトグラフ/大気イオン化質量(GC/APIMS)分析装置。
製品のお客様イメージ ガス中に含まれるppbオーダーというごく微量な不純物の濃度を、高い精度で測定することが求められる半導体メーカーが対象。
実施許諾対象企業イメージ 半導体メーカー、分析装置メーカー全般

各技術の詳細

出願番号
特願平10-249434
公開番号
特開2000-074882
登録番号
第3477606号
出願番号
特願2002-220419
公開番号
特開2004-061321
登録番号
第4185728号
出願番号
特願平11-354890
公開番号
特開2000-283971
登録番号
第4400973号
出願番号
特願2000-357456
公開番号
特開2002-162385
登録番号
第4590091号
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