シリカ粒子分散液およびその製造方法

開放特許情報番号
L2019002197
開放特許情報登録日
2019/12/2
最新更新日
2019/12/2

基本情報

出願番号 特願2009-086011
出願日 2009/3/31
出願人 JSR株式会社
公開番号 特開2010-083744
公開日 2010/4/15
登録番号 特許第5348400号
特許権者 JSR株式会社
発明の名称 シリカ粒子分散液およびその製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリカ粒子分散液およびその製造方法
目的 緻密な外部および複数の孔を有する内部から構成された低屈折率のシリカ粒子を提供する。また、従来よりも簡便な低屈折率のシリカ粒子の製造方法を提供する。
効果 従来よりも簡便な手法によって、低屈折率のシリカ粒子を含有するシリカ粒子分散液を得ることができる。
技術概要
↑29Si−NMRスペクトル法により測定されたスペクトルにおいて、化学シフト−94ppm〜−103ppmに発現するピークのシグナル面積をQ3とし、化学シフト−103ppm〜−115ppmに発現するピークのシグナル面積をQ4とした場合、
Q4/Q3の値が0.5〜5.0であるシリカ粒子未処理体であって、ゾルゲル法を使用して形成されたシリカ粒子未処理体を水熱処理する工程を含み、
前記工程により、緻密な外部および複数の孔を有する内部から構成されているシリカ粒子が形成される、シリカ粒子分散液の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 JSR株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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