シリカ中空粒子分散体の製造方法

開放特許情報番号
L2019002194
開放特許情報登録日
2019/12/2
最新更新日
2019/12/2

基本情報

出願番号 特願2007-084465
出願日 2007/3/28
出願人 JSR株式会社
公開番号 特開2008-239435
公開日 2008/10/9
登録番号 特許第5218720号
特許権者 JSR株式会社
発明の名称 シリカ中空粒子分散体の製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリカ系中空粒子分散体およびその製造方法、ならびにシリカ系中空粒子
目的 有機溶媒中での分散性に優れたシリカ系中空粒子分散体およびその製造方法、ならびにシリカ系中空粒子を提供する。
効果 有機溶媒中の分散性に優れたシリカ系中空粒子分散体を得ることができる。
技術概要
 
下記工程(a)〜(d)を含む、シリカ系中空粒子分散体の製造方法。
(a)炭酸カルシウム粒子および第1の有機溶媒を含有する分散体中で、下記一般式(1)で表される少なくとも1種の化合物及び下記一般式(2)で表される少なくとも1種の化合物を加水分解縮合して、前記炭酸カルシウム粒子を被覆するシリカ系被覆層を形成する工程、
(b)前記シリカ系被覆層が形成された炭酸カルシウム粒子から炭酸カルシウムの一部または全部を除去する工程、
(c)前記シリカ系被覆層を緻密化してシリカ系中空粒子を得る工程、および
(d)前記第1の有機溶媒を第2の有機溶媒に置換する工程
Si(OR↑1)↓4・・・・・(1)
(式中、R↑1は1価の有機基を示す。)
R↑2↓dSi(OR↑3)↓4−d・・・・・(2)
(式中、R↑2、R↑3は独立して1価の有機基を表し、dは1〜3の整数を示す。)
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 JSR株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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