技術概要
|
レーザー光は、計測や加工等、様々な分野で用いられており、特に、短パルスレーザーは、様々な分野で使用されている。その短パルスレーザー光のピーク強度を極めて高くする方法としてCPA法が用いられている。しかし、超短パルスレーザーを発振するレーザー装置の構成は、従来のCO2レーザー、YAGレーザー等と比べて複雑で、高価となっていた。この発明のレーザー装置は、パルスレーザー光をパルス伸張・圧縮器12に入射し、パルス伸張・圧縮器12通過後には、正にチャープされた状態となる。このレーザー光は、OPA13に入射する。OPA13は、入射光と共にポンプ光を入射させることによってポンプ光のエネルギーをシグナル光に移行させ、増幅されたシグナル光と、アイドラー光とを出力する。アイドラー光は、シグナル光とは逆に、負にチャープされた状態となっている。このアイドラー光は、前記と同一のパルス伸張・圧縮器12に入射する。従って、このアイドラー光がパルス伸張・圧縮器12を通過後の波形は正にチャープされ、長波長側でのパルスの遅延が補償される。このパルスレーザー光を出力として取り出せば、高出力の超短パルスレーザーを得ることができる。 |