シリカ中空粒子分散体の製造方法
- 開放特許情報番号
- L2019002194
- 開放特許情報登録日
- 2019/12/2
- 最新更新日
- 2019/12/2
基本情報
| 出願番号 | 特願2007-084465 |
|---|---|
| 出願日 | 2007/3/28 |
| 出願人 | ＪＳＲ株式会社 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2008/10/9 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | ＪＳＲ株式会社 |
| 発明の名称 | シリカ中空粒子分散体の製造方法 |
| 技術分野 | 化学・薬品、無機材料 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | シリカ系中空粒子分散体およびその製造方法、ならびにシリカ系中空粒子 |
| 目的 | 有機溶媒中での分散性に優れたシリカ系中空粒子分散体およびその製造方法、ならびにシリカ系中空粒子を提供する。 |
| 効果 | 有機溶媒中の分散性に優れたシリカ系中空粒子分散体を得ることができる。 |
| 技術概要 |
下記工程（ａ）〜（ｄ）を含む、シリカ系中空粒子分散体の製造方法。
（ａ）炭酸カルシウム粒子および第１の有機溶媒を含有する分散体中で、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物及び下記一般式（２）で表される少なくとも１種の化合物を加水分解縮合して、前記炭酸カルシウム粒子を被覆するシリカ系被覆層を形成する工程、 （ｂ）前記シリカ系被覆層が形成された炭酸カルシウム粒子から炭酸カルシウムの一部または全部を除去する工程、 （ｃ）前記シリカ系被覆層を緻密化してシリカ系中空粒子を得る工程、および （ｄ）前記第１の有機溶媒を第２の有機溶媒に置換する工程 Ｓｉ（ＯＲ↑１）↓４・・・・・（１） （式中、Ｒ↑１は１価の有機基を示す。） Ｒ↑２↓ｄＳｉ（ＯＲ↑３）↓４−ｄ・・・・・（２） （式中、Ｒ↑２、Ｒ↑３は独立して１価の有機基を表し、ｄは１〜３の整数を示す。） |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【可】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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